告别失配!实用的版图匹配技巧 ①(附仿真验证说明)
如何让你的版图真正做到匹配:以"电流镜"为例,通过仿真对比四种不同的版图画法,展示匹配精度差异。
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如何让你的版图真正做到匹配:以"电流镜"为例,通过仿真对比四种不同的版图画法,展示匹配精度差异。
帮助电路工程师快速上手 Virtuoso Layout L/XL 的入门指南,介绍查看版图的基本操作和技巧,包括显示优化、高亮连线、层级选择等实用功能。
分享我是如何从一个最简单的想法出发,通过与 AI 的不断对话、迭代和调试,一步步将“批量 DRC一键验证”的工具从 0 到 1 搭建起来的。
Wire Assistant 用得多但每次都要重新调?教你用环境变量一劳永逸搞定默认设置。
用一个环境变量,自定义 Layout 状态栏的显示内容与文字样式。
工具专项第一弹:Library Manager 实用配置技巧,包含右键菜单扩展、日志文件管理及常用环境变量设置。
通过环境配置实现:新建库时自动选择techLib,电路库自动配对版图库,定义工艺格点及固定Pin的生成参数,来提升设计效率。
修改PDK初始化SKILL脚本文件,来实现自动加载「LVS验证的 include File」、「Spectre模型文件」和「Layout EAD工具的参数配置文件」。
Voltage-dependent Spacing DRC 规则的辅助检查工具。
设置默认的应用程序 “L” & ”XL”….;编辑状态 “read” & ”edit”;视图形式 “new tab” & ”new window”…...
快速区分项目:修改CIW窗口和设计窗口标题栏的文本显示;设置 Palette(LSW) 面板显示样式
CIW 窗口集成 oaScan 菜单,设置崩溃日志文件的保存位置。
三种方式调整高分辨率下的字体大小,修正大字体导致表单文本重叠的问题。
自定义 CIW / Library Manger / 设计窗口大小。
本次主要介绍**Seg Jumper,Path Jumper 和 Path Router**的功能演示。为了更加直观地展示它们的功能特点,还将和大家熟悉的 Virtuoso 进行操作对比演示。
今天有幸参加了一场特别的专题实训——“AI辅助模拟设计”。AI与模拟设计的碰撞,不仅是两个领域的简单结合,而是模拟设计思维方式的革新。
初次接触 SkillCAD 工具,使用了几天感觉这工具对于打工人来说真实用。目前我也还在学习阶段,就先主要演示**「****9个****」**个人觉得好用且常用的功能。
首先,必须要强烈感谢粉丝朋友的推荐(^🙏^),让我用上了SKillCAD效率工具!我已经顺利跑了一遍安装流程,现在就把步骤记录下来分享给大家(独乐乐不如众乐乐嘛)!
最近我分享了关于 Virtuoso 套件中的 EAD 功能,发现后台有不少朋友对这个还挺陌生的,对其他EDA工具也不太熟悉。所以呢,本篇文章做个简单整理,**重点****介绍下那些在模拟设计领域里,我们经常打交道的软件工具,顺带****也会
在前两篇文章中,介绍了如何使用 Virtuoso EAD 工具提取寄生参数,包括:
在上篇《Part.1》文章中,我们已经掌握了如何使用 eadModelGen 程序将工艺文件转换成 eadTechFile 文件。本篇重点介绍如何设置 EAD 的一些参数,内容相对简单对于已经自行掌握的朋友可直接略过本文。
在上一篇文章中,展示了关于 EAD 工具的两个操作动图。本文开始将进一步介绍,如何使用 Layout EAD 工具来实时获取版图寄生参数的操作流程。
在芯片设计流程中,版图寄生参数的提取通常是**在LVS验证完成之后才进行**。这就意味着设计团队需要在整个设计周期的后期阶段介入,以识别并处理可能影响性能和面积的寄生效应。
提供 Cadence GPDK045 工艺的配套案例下载
收录于话题 [#Virtuoso](https://mp.weixin.qq.com/mp/appmsgalbum?__biz=MzAxMjcxNDg0NA==&action=getalbum&album_id=15688811433812
对项目而言,有时会有工艺转换的需求(process porting)即将整个项目从一个工艺移植在另一个工艺上。
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**11**篇 」
在 IC617 中定义了一个工艺库之后,发现库的状态是灰色的,里面没有任何器件:
在某些工艺的LVS运行过程中,会弹出 “Source端网表未定义subcket” 的警告框,如下图所示:
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**10**篇 」
「 这是Tanner L-Edit系列的第**6**篇 」
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**9**篇 」
「 这是Tanner L-Edit系列的第**5**篇 」
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**8**篇 」
「 这是Tanner L-Edit系列的第**4**篇 」
我们可以使用快捷键 “O” 调用VIA通孔,随后弹出Create Via选项卡:
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**7**篇 」
「 这是Tanner L-Edit系列的第**3**篇 」
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**6**篇 」
「 这是Tanner L-Edit系列的第**2**篇 」
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**5**篇 」
「 这是Virtuoso Layout L系列的第**4**篇 」
本次介绍的是“L-Edit”软件,它是由Tanner 公司开发的版图设计工具(现已被Mentor公司收购)。相较于Virtuoso工具,L-Edit的优点就是它能直接在Windows系统上运行,可以很方便地在个人电脑中安装使用。
1. 快捷键介绍 2. 快捷键的几种模式 3. 快捷键的加载顺序
1. 如何启动Virtuoso软件 2. CIW窗口介绍 3. 如何定义工艺库 4. 如何创建项目库
上一篇文章,介绍了软件的启动以及库的建立。这一章讲讲在版图绘制前,首先要了解的一些基础命令。